CVD人工钻石全自动激光打标系统

CVD—化学气相沉积法，CVD技术是化学气相沉积Chemical Vapor Deposition的缩写。

CVD人工钻石的主要工艺制程：提供基底—提供气源—产生等离子体—沉积碳原子—长晶过程（约2周以上）—稳定和冷却—激光切割初加工—激光打标—抛光—化学处理—品质检测—激光切割二次加工—激光打标—抛光—化学处理—品质检测—钻石切面分析及3D模拟—激光切割三次精加工—抛光打磨—钻石成品。

从上面的制程中我们可以清楚的知道，这里面有多道激光的制程，其中激光打标也是重要的制程之一。

产品来料，由数字编码变更为条形码：

客户要求：

1、人工只负责上下料和扫码，其余所有工作由设备完成，避免人为因素操作错误。

2、只允许激光打标在金刚石上表面，11位单线字，字高0.5-1mm，打标深度≤0.05mm。

3、金刚石片的每一片来料厚度有一定差异，需要在激光打标之前先测距并自动调整激光焦距。

4、增加视觉系统，视觉系统可以对产品进行定位打标（根据产品的外边框位置确定激光打标的位置），打标完成之后可以放大图像实时查看产品打标的效果。

5、配扫描枪，激光打标之前先扫描产品包装袋的条形码自动生成打标内容。

为此，我们专门开发了一套全自动CVD钻石激光打标系统：

（1）、设备外形：

（2）、设备构造

（3）、设备内构

（4）、设备尺寸

（5）、设备配置参数

激光器功率：10瓦紫外；

激光波长：355nm；

最小线宽：0.03mm（视材料）；

激光器冷却方式：水冷；

工作环境温度：10—30℃；

工作环境湿度：40%—80%，无结露；

打标深度：≤0.1mm；

出光方式：朝下出光；

振镜速度：≤10000mm/s；

重复精度：±0.003mm；

打标范围：常规100mm*100mm；

软件要求：扫码枪扫码后自动生成激光打标内容；

整机耗电：≤1500瓦；

供电电网：220V/50Hz，波动范围±5%，需有地线；

电磁信号干扰：安装设备附近应无强烈电磁信号干扰。安装地周围避免有无线电发射站（或中继站）；

地基振幅：小于50um；振动加速度：小于0.05g。避免有大量冲压等机床设备在附近；

烟尘：设备空间要求要保证无烟无尘，避免金属抛光研磨等粉尘严重的工作环境；